Mercado de litografía de EUV

Tamaño del mercado de la litografía de EUV

El tamaño del mercado global de litografía EUV se valoró en USD 9.45 mil millones en 2023 y se prevé que crecerá de USD 10.47 mil millones en 2024 a USD 23.37 mil millones para 2031, exhibiendo una tasa compuesta anual de 12.15% durante el período de pronóstico. La rápida adopción de tecnologías como la inteligencia artificial (IA), el Internet de las cosas (IoT) y la tecnología 5G están alimentando la necesidad de dispositivos de semiconductores de vanguardia.

La litografía de EUV es esencial en este contexto, ya que permite la producción de chips más pequeños, más potentes y eficientes en energía. Estos chips avanzados son cruciales para alimentar tecnologías de próxima generación, incluidas aplicaciones basadas en IA y redes 5G de alta velocidad.

En el alcance del trabajo, el informe incluye productos y servicios ofrecidos por compañías como ASML, Nikon Corporation, Ushio Inc., Photronics Inc., Trumpf, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc., Carl Zeiss AG, KLA Corporation, Suss Microtece y otros.

Además, la creciente necesidad de informática de alto rendimiento, impulsada por centros de datos, computación en la nube y aplicaciones de IA, está impulsando el crecimiento del mercado de litografía EUV. La tecnología permite la producción de chips de alta densidad necesarios para satisfacer el rendimiento estricto y las demandas de eficiencia energética de estas aplicaciones. A medida que tanto las empresas como los consumidores buscan soluciones informáticas más rápidas y eficientes, la demanda de litografía EUV está preparada para aumentar.

La litografía EUV (ultravioleta extrema) es un proceso avanzado de fabricación de semiconductores que utiliza luz ultravioleta extrema con una longitud de onda de 13.5 nanómetros para grabar patrones de circuito intrincados y muy densos en obleas de silicio. Esta tecnología es crucial para producir microchips más pequeños, más rápidos y más eficientes en energía, que son esenciales para la electrónica moderna, como los teléfonos inteligentes, la computación de alto rendimiento y las redes 5G.

La litografía EUV permite una mayor precisión y miniaturización en comparación con los métodos de litografía tradicionales, lo que permite el desarrollo de semiconductores de próxima generación que impulsan los avances tecnológicos en diversas industrias.

Revisión del analista

La sólida red de colaboraciones entre las principales empresas de tecnología, los proveedores de litografía, las instituciones de investigación y las agencias gubernamentales es esencial para avanzar en la tecnología de litografía EUV. Estas asociaciones estratégicas contribuyen significativamente al crecimiento del mercado. Las colaboraciones entre las empresas son cruciales para avanzar en los límites de la litografía EUV, una tecnología crítica para la producción de dispositivos semiconductores más pequeños, más potentes y eficientes en energía.

Estas asociaciones permiten el desarrollo de técnicas de litografía de vanguardia que son esenciales para la próxima generación desemiconductorfabricación. Los esfuerzos de colaboración están mejorando las capacidades de la tecnología EUV y aumentando su integración en diversas aplicaciones, apoyando así la expansión del mercado.

Además, las fundiciones de semiconductores están incorporando rápidamente la litografía EUV en sus operaciones debido a su papel fundamental en la producción de dispositivos semiconductores avanzados. La tecnología EUV permite la fabricación de características de semiconductores más pequeñas y complejas, que son esenciales para satisfacer la creciente demanda de mayor rendimiento y un menor consumo de energía en la electrónica. A medida que las fundiciones adoptan la litografía EUV, mejoran su capacidad para fabricar chips de vanguardia con una mejor precisión y eficiencia.

• Por ejemplo, en abril de 2024, Intel Foundry instaló el primer escáner de litografía de ultravioleta extrema (EUV) de alta apertura numérica de la industria en Hillsboro, Oregon. La herramienta Twinscan Exe: 5000 High NA EUV, proporcionada por el líder de litografía ASML, se prevé que facilite la escalabilidad y precisión incomparables en la fabricación de chips para Intel. Esta tecnología avanzada le permite a Intel fabricar chips con capacidades y características de vanguardia, que son la innovación crucial en el cárcel en las tecnologías emergentes, incluida la IA.

Factores de crecimiento del mercado de litografía de EUV

La demanda global de microchips está aumentando debido a la adopción generalizada de tecnologías avanzadas como la inteligencia artificial, 5G e Internet de las cosas (IoT). A medida que las industrias dependen cada vez más de dispositivos electrónicos más potentes y eficientes, existe una necesidad correspondiente de microchips más pequeños y sofisticados.

La miniaturización semiconductora se ha convertido en un foco crítico, lo que permite la producción de dispositivos compactos y altamente eficientes que ofrecen un rendimiento mejorado. La litografía EUV juega un papel indispensable en este proceso de miniaturización, lo que permite a los fabricantes crear patrones de circuito ultra finos con precisión sin precedentes.

Esta capacidad es esencial para producir la próxima generación de microchips que cumplan con los requisitos estrictos de las aplicaciones modernas. El creciente énfasis en la miniaturización está aumentando la expansión del mercado de litografía EUV, ya que respalda el desarrollo de semiconductores de vanguardia que son fundamentales para la innovación tecnológica.

Además, los gobiernos de todo el mundo están poniendo un énfasis creciente en la industria de los semiconductores, reconociendo su importancia en la seguridad nacional y la competitividad económica. Para avanzar en la fabricación de chips nacionales, están ofreciendo un apoyo sustancial a través de fondos, incentivos fiscales e iniciativas estratégicas.

Este apoyo gubernamental es particularmente fuerte en países como Estados Unidos, Europa y China, donde los esfuerzos se centran en fortalecer la cadena de suministro de semiconductores y avanzar en las capacidades de producción local. Existe un cambio importante hacia la adopción de tecnologías de vanguardia como la litografía EUV, que es esencial para producir semiconductores de próxima generación.

• Por ejemplo, en mayo de 2024, el gobierno chino incluyó su tercer fondo de inversión planificado respaldado por el estado para expandir su industria de semiconductores,. Este fondo, con un capital de USD 47.5 mil millones, se detalló en una presentación ante un registro de la empresa operada por el gobierno.

Tendencias del mercado de litografía de EUV

El avance continuo de la tecnología de litografía EUV es un crecimiento significativo de la tendencia que impulsa el mercado, particularmente a través de sus capacidades mejoradas en la fabricación de semiconductores. Las innovaciones clave en la tecnología de origen EUV han llevado a una mayor potencia de origen y productividad, lo que permite mayores rendimientos de obleas.

Estas mejoras son cruciales para satisfacer la creciente demanda de chips avanzados. El progreso en la producción de máscaras sin defectos y más duraderas está resultando en la adopción generalizada de esta tecnología. Además, el desarrollo de los escáneres de litografía EUV de próxima generación, que ofrecen una mayor resolución y una mayor precisión de superposición, avanza los límites de la miniaturización y el aumento del rendimiento en la producción de chips.

Estos avances tecnológicos están mejorando la eficiencia y la rentabilidad al tiempo que establecen nuevos estándares de precisión y capacidad en la fabricación de semiconductores, aumentando así la expansión del mercado de litografía EUV.

Además, el avance continuo dentro de la industria electrónica de consumo es una tendencia importante que alimenta el crecimiento del mercado. A medida que los consumidores exigen dispositivos cada vez más con un rendimiento superior, duración de la batería extendida y características innovadoras, ha habido un aumento significativo en la necesidad de chips de semiconductores avanzados.

La litografía de EUV juega un papel fundamental en esta transformación, lo que permite la producción de chips ultra-competencia y de alto rendimiento que son críticos para teléfonos inteligentes de próxima generación, computadoras portátiles, consolas de juegos ywearables. Esta tecnología permite a los fabricantes redefinir las posibilidades en la electrónica de consumo, ofreciendo productos de última generación que cumplen con las crecientes expectativas de los consumidores expertos en tecnología.

Como la competencia para ofrecer los dispositivos más avanzados se intensifica, el papel de la litografía de EUV en la electrónica de consumo se vuelve cada vez más crítico.

• Según el Gitnux Org. Informe, el mercado global de electrónica de consumo se valoró en USD 729.11 mil millones en 2022 y se prevé que crecerá a una tasa compuesta anual de 6.9% de 2023 a 2030.

Análisis de segmentación

El mercado global está segmentado según el equipo, el usuario final y la geografía.

Por equipo

Según el equipo, el mercado está segmentado en una fuente de luz, óptica y otros. El segmento de fuente de luz lideró el mercado de litografía EUV en 2023, alcanzando una valoración de USD 4.60 mil millones. Esta prominencia se atribuye a su papel crítico en la habilitación de todo el proceso de litografía. La fuente de luz genera la luz ultravioleta extrema (EUV) requerida para grabar patrones precisos en obleas de silicio.

A medida que los fabricantes de semiconductores continúan avanzando en miniaturización, la demanda de fuentes de luz más potentes y eficientes ha aumentado significativamente. Este dominio se ve reforzado por las importantes inversiones de I + D y los altos costos de producción asociados con el desarrollo y el mantenimiento de estas fuentes de luz avanzadas.

Por usuario final

Basado en el usuario final, el mercado se clasifica en fabricantes de dispositivos y fundiciones integradas de dispositivos. El segmento de fundaciones aseguró la mayor participación de ingresos de 58.72% en 2023 debido a su importante papel en la producción en masa de chips semiconductores. Las fundiciones son los principales adoptantes de la tecnología de litografía EUV.

La demanda de chips más pequeños y más eficientes utilizados en aplicaciones avanzadas como AI, 5G y la informática de alto rendimiento han llevado a las fundiciones a invertir mucho en la litografía de EUV. Esta tecnología les permite producir los patrones intrincados y de alta densidad necesarios para estos semiconductores de próxima generación.

Además, las fundiciones se requieren constantemente para ofrecer un mayor rendimiento y fomentar la innovación a gran escala, lo que hace que la litografía EUV sea indispensable para satisfacer las crecientes demandas del mercado.

Análisis regional del mercado de litografía EUV

Basado en la región, el mercado global se clasifica en América del Norte, Europa, Asia-Pacífico, MEA y América Latina.

El mercado de litografía EUV de Asia Pacific representó una participación sustancial de alrededor del 36,28% en 2023, con una valoración de USD 3.43 mil millones. Asia-Pacífico, particularmente países como Taiwán, Corea del Sur y China, es el hogar de algunos de los fabricantes de semiconductores más grandes y avanzados del mundo.

Estas compañías están adoptando cada vez más la litografía EUV para mantener su ventaja competitiva y abordar la creciente demanda mundial de chips de vanguardia. El dominio de la región en la producción de semiconductores alimenta la necesidad de equipos de litografía avanzada, apoyando así el crecimiento del mercado regional.

• Según el Banco Asiático de Desarrollo, las economías de altos ingresos y en desarrollo en el este de Asia y el sudeste asiático representan colectivamente más del 80% de la fabricación global de semiconductores. Japón alberga algunas de las compañías más grandes que suministran equipos y materiales esenciales para la industria de los semiconductores, mientras que la República Popular de China lidera el mundo en la producción de células fotovoltaicas, otra categoría importante de semiconductores.

La región de Asia-Pacífico es un centro importante para la fabricación de electrónica de consumo, con empresas en esta región responsables de producir una parte significativa de los teléfonos inteligentes, computadoras portátiles y otros dispositivos electrónicos del mundo. La creciente demanda de estos productos, junto con el cambio hacia semiconductores más avanzados y eficientes, está llevando a la adopción generalizada de la litografía EUV para producir la próxima generación de chips.

• Un informe co-lanzado por la firma de contabilidad global Ernst & Young y la Cámara de Comercio de China para la importación y exportación de maquinaria y productos electrónicos en 2024 destaca el surgimiento de China como un centro global para la electrónica de consumo y los electrodomésticos. En 2023, China dominó el mercado de Asia-Pacífico, capturando aproximadamente el 48% de las acciones de ventas. El informe subraya que China problemas con su posición como una nación líder tanto en producción como en ventas y mantuvo una presencia significativa en las exportaciones, lo que representa el 42% de las acciones de exportación global en 2022.

América del Norte está a punto de presenciar un crecimiento significativo a una tasa compuesta anual de 12.29% durante el período de pronóstico. El gobierno de los Estados Unidos se ha centrado cada vez más en aumentar la fabricación de semiconductores nacionales para mejorar la seguridad nacional y reducir la dependencia de los proveedores extranjeros.

Iniciativas como la Ley CHIPS, que proporciona fondos e incentivos sustanciales para la fabricación e investigación de semiconductores, están impulsando la adopción de tecnologías avanzadas como la litografía EUV en América del Norte.

• Según un informe de agosto de 2024 del Foro de Asia Oriental, la industria de los semiconductores se ha convertido en un componente crucial de la economía y la seguridad nacional de EE. UU. Esto se evidencia por la rápida expansión de las instalaciones de fabricación de semiconductores en todo el país. Inversiones significativas, como la nueva instalación FAB 42 de Intel y la fábrica de TSMC en Arizona, están reforzando las capacidades de producción nacional. Aunque Estados Unidos posee solo el 12 por ciento de la capacidad de fabricación global, representa más del 46 por ciento de las ventas totales de semiconductores en 2024, lo que destaca su influencia significativa en el mercado global. La Asociación de la Industria de Semiconductores ha informado que la Ley de CHIPS ha estancado más de USD 450 mil millones en inversiones privadas en el sector de semiconductores de EE. UU., Condujo a 83 nuevos proyectos de ecosistemas de semiconductores en 25 estados.

Además, la industria de semiconductores de la región se beneficia de una sólida red de colaboraciones entre las principales empresas de tecnología, las instituciones de investigación y las agencias gubernamentales. Estas asociaciones están avanzando en la litografía EUV y facilitan su adopción en diversas aplicaciones, lo que aumenta la expansión del mercado de América del Norte.

Panorama competitivo

El informe del mercado global de litografía EUV proporcionará una visión valiosa con énfasis en la naturaleza fragmentada de la industria. Los jugadores prominentes se están centrando en varias estrategias comerciales clave, como asociaciones, fusiones y adquisiciones, innovaciones de productos y empresas conjuntas para expandir su cartera de productos y aumentar sus cuotas de mercado en diferentes regiones.

Las iniciativas estratégicas, incluidas las inversiones en actividades de I + D, el establecimiento de nuevas instalaciones de fabricación y la optimización de la cadena de suministro, podrían crear nuevas oportunidades para el crecimiento del mercado.

Lista de empresas clave en el mercado de litografía de EUV

• Asml
• Corporación Nikon
• Ushio Inc.
• Photronics Inc.
• Trumpf
• Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited
• Toppan Photomasks Inc.
• Carl Zeiss AG
• KLA Corporation
• Suss Microtec SE

Desarrollos clave de la industria

• Junio de 2024 (asociación): ASML, en asociación con IMEC, un centro digital de innovación e investigación, anunció la inauguración del laboratorio de litografía de alto EUV en los Países Bajos. Esta instalación avanzada, operada conjuntamente por las dos compañías, los fabricantes de chips de memoria de vanguardia diseñados con acceso al primer prototipo de escáner NA EUV alto, junto con las herramientas de procesamiento y metrología asociadas.
• Febrero de 2024 (empresa conjunta): Toppan Photomask, un proveedor global líder de fotomatas de semiconductores, anunció un acuerdo conjunto de investigación y desarrollo con IBM. Esta colaboración se centra en avanzar en el nodo semiconductor lógico de 2 nanométricos (nm) mediante el uso de litografía ultravioleta extrema (EUV). Además, la asociación incluye esfuerzos para desarrollar fotomatas EUV de alta NA para semiconductores de próxima generación.

El mercado global de litografía EUV está segmentado como:

Por equipo

• Fuente de luz
• Óptica
• Otros

Por usuario final

• Fabricantes de dispositivos integrados
• Fuseles

Por región

• América del norte
  • A NOSOTROS.
  • Canadá
  • México
• Europa
  • Francia
  • Reino Unido
  • España
  • Alemania
  • Italia
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  • Resto de Europa
• Asia-Pacífico
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