EUV光刻市场

EUV光刻市场规模

全球EUV光刻市场规模在2023年的价值为94.5亿美元，预计到2024年的104.7亿美元到2031年的233.7亿美元，在预测期内的复合年增长率为12.15％。诸如人工智能（AI），物联网（IoT）和5G技术等技术的迅速采用促进了尖端半导体设备的需求。

在这种情况下，EUV光刻是必不可少的，因为它可以生产较小，更强大，更节能的芯片。这些先进的芯片对于为下一代技术提供动力至关重要，包括AI驱动应用和高速5G网络。

在工作范围内，该报告包括ASML，Nikon Corporation，Ushio Inc.，Photronics Inc.，Trumpronics Inc.，Trumpf，Taiwan半导体制造公司Limited，Toppan Photasks Inc.，Carl Zeiss AG，KLA Corporation，Suss Microtec SE等公司提供的产品和服务。

此外，由数据中心，云计算和AI应用程序驱动的对高性能计算的需求越来越多，正在推动EUV光刻市场的增长。该技术可实现所需的高密度芯片，以满足这些应用的严格性能和能源效率的需求。随着企业和消费者都寻求更快，更有效的计算解决方案，对EUV光刻的需求已准备就绪。

EUV（极端紫外线）光刻是一种先进的半导体制造过程，它使用极端的紫外线，波长为13.5纳米，用于蚀刻复杂的和高度致密的电路模式到硅晶状体上。这项技术对于生产较小，更快，更强大的微芯片至关重要，这对于智能手机，高性能计算和5G网络等现代电子产品至关重要。

与传统的光刻方法相比，EUV光刻允许更高的精度和小型化，从而使下一代半导体的发展能够推动各个行业的技术进步。

分析师的评论

领先的技术公司，光刻提供商，研究机构和政府机构之间合作的强大网络对于推进EUV光刻技术至关重要。这些战略伙伴关系为市场增长做出了重大贡献。两家公司之间的合作对于提高EUV光刻的界限至关重要，这对于生产较小，更强大和节能的半导体设备至关重要。

这些伙伴关系使得能够开发前沿光刻技术，这对于下一代至关重要半导体制造业。协作的努力是增强EUV技术的能力，并将其集成到各种应用程序中，从而支持市场的扩展。

此外，由于其在生产晚期半导体设备中的关键作用，半导体铸造厂正在迅速将EUV光刻纳入其操作中。 EUV技术可以制造较小且更复杂的半导体功能，这对于满足对电子产品的较高性能和较低功耗的需求至关重要。随着铸造厂采用EUV光刻，它们以提高的精度和效率提高了制造尖端芯片的能力。

• 例如，在2024年4月，英特尔铸造厂在其在俄勒冈州希尔斯伯勒的R＆D设施上安装了该行业的第一个商业高数值（高NA）Extremulviolet（EUV）光刻扫描仪。 TWINSCAN EXE：5000高NA EUV工具，由光刻领导者ASML提供，预计将促进Intel芯片制造中无与伦比的可扩展性和精度。这项先进的技术使英特尔能够制造具有尖端功能和功能的芯片，这些芯片是包括AI在内的新兴技术的至关重要的伪造创新。

EUV光刻市场增长因素

由于人工智能，5G和物联网（IoT）等先进技术的广泛采用，全球对微芯片的需求正在增加。随着行业越来越依赖更强大，更有效的电子设备，对较小，更复杂的微芯片的相应需求。

半导体的小型化已成为关键的重点，从而实现了可提供增强性能的紧凑型和高效的设备。 EUV光刻在这个微型化过程中起着必不可少的作用，使制造商可以创建具有前所未有的精度的超细电路模式。

该功能对于生产下一代的微芯片至关重要，以满足现代应用程序的严格要求。对小型化的越来越强调正在增强EUV光刻市场的扩展，因为它支持了技术创新基础的尖端半导体的发展。

此外，全世界政府正在越来越强调半导体行业，认识到其在国家安全和经济竞争力中的重要性。为了推动国内芯片制造业，他们通过资金，税收优惠和战略计划提供大量支持。

在美国，欧洲和中国等国家，这种政府的支持尤其强烈，在那里努力致力于加强半导体供应链并提高当地生产能力。朝着采用尖端技术（例如EUV光刻）的主要转变，这对于生产下一代半导体至关重要。

• 例如，在2024年5月，中国政府介绍了其国家支持的第三项计划投资基金，以扩大其半导体行业，，，，。该基金的资本为475亿美元，在向政府经营的公司注册表的文件中详细介绍。

EUV光刻市场趋势

EUV光刻技术的持续发展是一种巨大的趋势推动市场增长，尤其是通过增强其在半导体制造中的能力。 EUV源技术的关键创新导致源能力和生产率提高，从而提高了晶圆产量。

这些改进对于满足对高级芯片的需求不断增长至关重要。产生无缺陷和更耐用的口罩的进展导致该技术的广泛采用。此外，下一代EUV光刻扫描仪的开发提供了更高的分辨率和提高的覆盖精度，它正在促进微型化和提高芯片生产中的性能的限制。

这些技术进步正在提高效率和成本效益，同时为半导体制造的精确和能力树立了新的标准，从而增加了EUV光刻市场的扩展。

此外，消费电子行业的持续发展是推动市场增长的主要趋势。随着消费者越来越多地要求具有出色性能，延长电池寿命和创新功能的设备，对高级半导体芯片的需求显着增加。

EUV光刻在这种转变中起着关键作用，使得能够生产超紧凑的高性能芯片，这对于下一代智能手机，笔记本电脑，游戏机和可穿戴设备。该技术使制造商能够重新定义消费电子产品中的可能性，从而提供最先进的产品，以满足对技术精通技术的期望日益期望。

随着提供最先进的设备加剧的竞争，EUV光刻在消费电子产品中的作用变得越来越重要。

• 根据Gitnux组织。报告，全球消费电子市场的价值为2022年的7291亿美元，预计从2023年到2030年的复合年增长率为6.9％。

分割分析

根据设备，最终用户和地理位置，对全球市场进行了细分。

通过设备

根据设备，市场被细分为光源，光学元件和其他。光源领域在2023年领导了EUV光刻市场，估值为46亿美元。这种突出性归因于其在启用整个光刻过程中的关键作用。光源产生了将精确图案蚀刻到硅晶片上所需的极端紫外线（EUV）。

随着半导体制造商继续推进小型化，对更强大，更有效的光源的需求已大大增加。与开发和维护这些高级光源相关的大量研发投资和高生产成本进一步增强了这种统治地位。

由最终用户

基于最终用户，市场被归类为集成的设备制造商和铸造厂。由于其在半导体芯片的大规模生产中，铸造厂领域的收入份额在2023年获得了58.72％的最大份额。铸造厂是EUV光刻技术的主要采用者。

在AI，5G和高性能计算等先进应用程序中使用的较小，更高效的芯片的需求促使铸造厂大量投资于EUV光刻。该技术使他们能够生成这些下一代半导体所需的复杂和高密度模式。

此外，始终需要铸造厂以大规模提供更高的性能和促进创新，从而使EUV光刻在满足不断增长的市场需求时必不可少。

EUV光刻市场区域分析

根据地区，全球市场分为北美，欧洲，亚太地区，MEA和拉丁美洲。

亚太EUV光刻市场在2023年占36.28％的份额，估值为34.3亿美元。亚太地区，尤其是台湾，韩国和中国等国家，是世界上一些最大，最先进的半导体制造商的所在地。

这些公司越来越多地采用EUV光刻来维持其竞争优势，并满足了全球对尖端筹码的不断增长的需求。该地区在半导体生产中的主导地位增强了对高级光刻设备的需求，从而支持了区域市场的增长。

• 根据亚洲开发银行的说法，东亚和东南亚的高收入和发展中的经济体集体占全球半导体制造业的80％以上。日本拥有一些为thememicductor行业提供必不可少的设备和材料的最大公司，而中华人民共和国则领导着全球光伏电池的生产，这是另一个重要的半导体类别。

亚太地区是消费电子制造业的主要枢纽，该地区的公司负责在世界上占有很大一部分智能手机，笔记本电脑和其他电子设备。对这些产品的需求不断增长，再加上向更先进和高效的半导体转移，导致广泛采用EUV光刻来生产下一代芯片。

• 全球会计公司Ernst＆Young与中国商会共同发行的报告在2024年进口和出口机械和电子产品，重点介绍了中国作为消费电子和家用电器的全球枢纽的出现。 2023年，中国统治了亚太市场，占据了约48％的销售份额。该报告强调了中国在生产和销售领域的领先国家的地位，并在出口上保持着重要的影响力，占2022年全球出口股份的42％。

在预测期内，北美有望以12.29％的强大复合年增长率见证显着增长。美国政府越来越集中于促进国内半导体制造业，以增强国家安全并减少对外国供应商的依赖。

诸如《芯片法》之类的举措为半导体制造和研究提供了可观的资金和激励措施，正在促进采用北美诸如EUV光刻等先进技术。

• 根据2024年8月的东亚论坛报告，半导体行业已成为美国经济和国家安全的关键组成部分。全国半导体制造设施的快速扩展可以证明这一点。大量投资，例如英特尔的新Fab 42工厂和TSMC在亚利桑那州的工厂，正在加强国内生产能力。尽管美国仅占全球制造能的12％，但它占2024年总半导体销售额的46％以上，强调了其在全球市场中的重大影响。半导体行业协会报道说，《芯片法》在美国半导体领域的私人投资已超过400亿美元，导致25个州的83个新的半导体生态系统项目。

此外，该地区的半导体行业受益于领先的技术公司，研究机构和政府机构之间的强大合作网络。这些伙伴关系正在推动EUV光刻，并促进了其在各种应用中的采用，从而促进了北美市场的扩张。

竞争格局

全球EUV光刻市场报告将提供宝贵的见解，重点是该行业的分散性质。杰出的参与者专注于几种关键的业务策略，例如合作伙伴关系，合并和收购，产品创新和合资企业，以扩大其产品组合并增加不同地区的市场份额。

战略举措，包括在研发活动中的投资，建立新的制造设施以及供应链优化，可以为市场增长创造新的机会。

EUV光刻市场中的主要公司清单

• ASML
• 尼康公司
• Ushio Inc.
• Photronics Inc.
• 特朗普
• 台湾半导体制造公司有限公司
• Toppan PhotoMasks Inc.
• 卡尔·蔡司（Carl Zeiss AG）
• KLA公司
• SUSS Microtec SE

关键行业发展

• 2024年6月（合伙企业）：ASML与IMEC合作，这是一项创新和研究中心数字技术，宣布了荷兰高NA EUV光刻实验室的就职典礼。这家由两家公司共同运营的高级设施，设计了台面的尖端存储芯片制造商，可访问第一个原型高NA EUV扫描仪，以及相关的计量和处理工具。
• 2024年2月（合资企业）：Toppan Photasks是半导体光罩的全球领先提供商，宣布与IBM达成共同的研发协议。这种合作的重点是通过使用极端紫外线（EUV）光刻来推进2纳米（NM）逻辑半导体节点。此外，该合作伙伴关系包括为下一代半导体开发高NA EUV光罩的努力。

全球EUV光刻市场被细分为：

通过设备

• 光源
• 光学
• 其他的

由最终用户

• 集成设备制造商
• 铸造厂

按地区

• 北美
  • 我们。
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  • 英国。
  • 西班牙
  • 德国
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