Размер рынка EUV-литографии, доля, рост и отраслевой анализ, по оборудованию (источник света, оптика и т. д.), по конечным пользователям (производители интегрированных устройств, литейные заводы) и региональный анализ, 2024-2031

Размер рынка EUV-литографии

Объем мирового рынка EUV-литографии оценивался в 9,45 млрд долларов США в 2023 году, и, по прогнозам, он вырастет с 10,47 млрд долларов США в 2024 году до 23,37 млрд долларов США к 2031 году, демонстрируя среднегодовой темп роста 12,15% в течение прогнозируемого периода. Быстрое внедрение таких технологий, как искусственный интеллект (ИИ), Интернет вещей (IoT) и технология 5G, усиливает потребность в передовых полупроводниковых устройствах.

EUV-литография имеет важное значение в этом контексте, поскольку она позволяет производить более мелкие, более мощные и энергоэффективные чипы. Эти передовые чипы имеют решающее значение для поддержки технологий следующего поколения, включая приложения на основе искусственного интеллекта и высокоскоростные сети 5G.

В объем работ в отчет включены продукты и услуги, предлагаемые такими компаниями, как ASML, Nikon Corporation, Ushio Inc., Photronics Inc., TRUMPF, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Toppan Photomasks Inc., Carl Zeiss AG, KLA Corporation, SUSS MicroTec SE и другие.

Более того, растущая потребность в высокопроизводительных вычислениях, вызванная центрами обработки данных, облачными вычислениями и приложениями искусственного интеллекта, стимулирует рост рынка EUV-литографии. Эта технология позволяет производить чипы высокой плотности, необходимые для удовлетворения строгих требований к производительности и энергоэффективности этих приложений. Поскольку как предприятия, так и потребители ищут более быстрые и эффективные вычислительные решения, спрос на EUV-литографию будет расти.

Литография EUV (экстремальный ультрафиолет) — это передовой процесс производства полупроводников, в котором используется крайний ультрафиолет с длиной волны 13,5 нанометров для гравирования сложных и очень плотных схем на кремниевых пластинах. Эта технология имеет решающее значение для производства меньших, быстрых и более энергоэффективных микрочипов, которые необходимы для современной электроники, такой как смартфоны, высокопроизводительные вычисления и сети 5G.

EUV-литография обеспечивает большую точность и миниатюризацию по сравнению с традиционными методами литографии, что позволяет разрабатывать полупроводники следующего поколения, которые способствуют технологическому прогрессу в различных отраслях.

Обзор аналитика

Надежная сеть сотрудничества между ведущими технологическими компаниями, поставщиками литографии, исследовательскими институтами и государственными учреждениями имеет важное значение для развития технологии EUV-литографии. Эти стратегические партнерства вносят значительный вклад в рост рынка. Сотрудничество между компаниями имеет решающее значение для расширения границ EUV-литографии, технологии, имеющей решающее значение для производства меньших по размеру, более мощных и энергоэффективных полупроводниковых устройств.

Эти партнерства позволяют разрабатывать передовые методы литографии, которые необходимы для следующего поколения.полупроводникпроизводство. Совместные усилия расширяют возможности технологии EUV и усиливают ее интеграцию в различные приложения, тем самым поддерживая расширение рынка.

Кроме того, заводы по производству полупроводников быстро внедряют EUV-литографию в свою деятельность из-за ее решающей роли в производстве современных полупроводниковых устройств. Технология EUV позволяет изготавливать более мелкие и более сложные полупроводниковые элементы, которые необходимы для удовлетворения растущего спроса на более высокую производительность и более низкое энергопотребление в электронике. По мере того, как литейные предприятия внедряют EUV-литографию, они расширяют свои возможности производить самые современные чипы с повышенной точностью и эффективностью.

• Например, в апреле 2024 года компания Intel Foundry установила первый в отрасли коммерческий литографический сканер для экстремального ультрафиолета (EUV) с высокой числовой апертурой (High NA) на своем научно-исследовательском предприятии в Хиллсборо, штат Орегон. Ожидается, что инструмент TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV, предоставленный лидером в области литографии ASML, обеспечит беспрецедентную масштабируемость и точность при производстве чипов для Intel. Эта передовая технология позволяет Intel производить чипы с передовыми возможностями и функциями, которые имеют решающее значение для продвижения инноваций в новых технологиях, включая искусственный интеллект.

Факторы роста рынка EUV-литографии

Глобальный спрос на микрочипы растет благодаря широкому внедрению передовых технологий, таких как искусственный интеллект, 5G и Интернет вещей (IoT). Поскольку отрасли все больше полагаются на более мощные и эффективные электронные устройства, возникает соответствующая потребность в более мелких и сложных микрочипах.

Миниатюризация полупроводников стала критически важным направлением, позволяющим производить компактные и высокоэффективные устройства с улучшенными характеристиками. EUV-литография играет незаменимую роль в этом процессе миниатюризации, позволяя производителям создавать сверхтонкие схемы с беспрецедентной точностью.

Эта возможность необходима для производства микрочипов следующего поколения, отвечающих строгим требованиям современных приложений. Растущий акцент на миниатюризации способствует расширению рынка EUV-литографии, поскольку он поддерживает разработку передовых полупроводников, которые являются основой технологических инноваций.

Более того, правительства во всем мире уделяют все большее внимание полупроводниковой промышленности, признавая ее значение для национальной безопасности и экономической конкурентоспособности. Для развития отечественного производства чипов они предлагают существенную поддержку посредством финансирования, налоговых льгот и стратегических инициатив.

Эта государственная поддержка особенно сильна в таких странах, как США, Европа и Китай, где усилия сосредоточены на укреплении цепочки поставок полупроводников и развитии местного производственного потенциала. Происходит серьезный сдвиг в сторону внедрения передовых технологий, таких как EUV-литография, которая необходима для производства полупроводников следующего поколения.

• Например, в мае 2024 года китайское правительство представило поддерживаемый государством третий запланированный инвестиционный фонд для расширения своей полупроводниковой промышленности.,. Этот фонд с капиталом в 47,5 миллиардов долларов США был подробно описан в документации, поданной в государственный реестр компаний.

Тенденции рынка EUV-литографии

Постоянное развитие технологии EUV-литографии является важной тенденцией, способствующей росту рынка, особенно благодаря расширению ее возможностей в производстве полупроводников. Ключевые инновации в технологии источников EUV привели к увеличению мощности и производительности источника, что позволило повысить выход пластин.

Эти улучшения имеют решающее значение для удовлетворения растущего спроса на современные чипы. Прогресс в производстве бездефектных и более долговечных масок привел к широкому распространению этой технологии. Более того, разработка EUV-литографических сканеров следующего поколения, которые предлагают более высокое разрешение и повышенную точность наложения, расширяет границы миниатюризации и повышает производительность при производстве чипов.

Эти технологические достижения повышают эффективность и экономическую эффективность, а также устанавливают новые стандарты точности и возможностей в производстве полупроводников, тем самым способствуя расширению рынка EUV-литографии.

Кроме того, непрерывное развитие индустрии бытовой электроники является основной тенденцией, способствующей росту рынка. Поскольку потребители все чаще требуют устройств с превосходной производительностью, увеличенным временем автономной работы и инновационными функциями, значительно возросла потребность в современных полупроводниковых чипах.

EUV-литография играет ключевую роль в этой трансформации, позволяя производить сверхкомпактные, высокопроизводительные чипы, которые имеют решающее значение для смартфонов, ноутбуков, игровых консолей следующего поколения иносимые устройства. Эта технология позволяет производителям по-новому взглянуть на возможности бытовой электроники, предлагая самые современные продукты, отвечающие растущим ожиданиям технически подкованных потребителей.

Поскольку конкуренция за предоставление самых передовых устройств усиливается, роль EUV-литографии в бытовой электронике становится все более важной.

• По данным Gitnux Org. Согласно отчету, мировой рынок бытовой электроники в 2022 году оценивался в 729,11 млрд долларов США, и, по прогнозам, среднегодовой темп роста составит 6,9% с 2023 по 2030 год.

Анализ сегментации

Мировой рынок сегментирован по оборудованию, конечному пользователю и географическому положению.

По оборудованию

По оборудованию рынок сегментирован на источники света, оптику и другие. Сегмент источников света лидировал на рынке EUV-литографии в 2023 году, достигнув оценки в 4,60 миллиарда долларов США. Эта известность объясняется его решающей ролью в обеспечении всего процесса литографии. Источник света генерирует ультрафиолетовый свет (EUV), необходимый для гравировки точных рисунков на кремниевых пластинах.

Поскольку производители полупроводников продолжают продвигать миниатюризацию, спрос на более мощные и эффективные источники света значительно увеличился. Это доминирование еще более усиливается значительными инвестициями в исследования и разработки и высокими производственными затратами, связанными с разработкой и обслуживанием этих передовых источников света.

Конечным пользователем

В зависимости от конечного пользователя рынок подразделяется на производителей интегрированных устройств и литейные предприятия. Сегмент литейного производства обеспечил наибольшую долю выручки — 58,72% в 2023 году благодаря своей значительной роли в массовом производстве полупроводниковых чипов. Литейные предприятия являются основными пользователями технологии EUV-литографии.

Спрос на меньшие по размеру и более эффективные чипы, используемые в передовых приложениях, таких как искусственный интеллект, 5G и высокопроизводительные вычисления, побудил литейные предприятия вкладывать значительные средства в EUV-литографию. Эта технология позволяет им создавать сложные структуры высокой плотности, необходимые для полупроводников следующего поколения.

Кроме того, от литейных предприятий постоянно требуется обеспечивать более высокую производительность и широкомасштабно стимулировать инновации, что делает EUV-литографию незаменимой для удовлетворения растущих потребностей рынка.

Региональный анализ рынка EUV-литографии

В зависимости от региона мировой рынок подразделяется на Северную Америку, Европу, Азиатско-Тихоокеанский регион, Ближний Восток и Африка и Латинскую Америку.

В 2023 году на рынок EUV-литографии Азиатско-Тихоокеанского региона приходилось значительная доля — около 36,28%, с оценкой в ​​3,43 миллиарда долларов США. Азиатско-Тихоокеанский регион, особенно такие страны, как Тайвань, Южная Корея и Китай, являются домом для некоторых из крупнейших и наиболее передовых в мире производителей полупроводников.

Эти компании все чаще применяют EUV-литографию, чтобы сохранить конкурентоспособность и удовлетворить растущий мировой спрос на передовые чипы. Доминирование региона в производстве полупроводников усиливает потребность в современном литографическом оборудовании, тем самым поддерживая рост регионального рынка.

• По данным Азиатского банка развития, на страны с высокими доходами и развивающиеся страны Восточной и Юго-Восточной Азии в совокупности приходится более 80% мирового производства полупроводников. В Японии расположены одни из крупнейших компаний, поставляющих оборудование и материалы, необходимые для полупроводниковой промышленности, тогда как Китайская Народная Республика лидирует в мире по производству фотоэлектрических элементов, еще одной важной категории полупроводников.

Азиатско-Тихоокеанский регион является крупным центром производства бытовой электроники, причем компании этого региона отвечают за производство значительной доли смартфонов, ноутбуков и других электронных устройств в мире. Растущий спрос на эту продукцию в сочетании со сдвигом в сторону более совершенных и эффективных полупроводников ведёт к широкому внедрению EUV-литографии для производства чипов следующего поколения.

• В отчете, опубликованном совместно глобальной аудиторской фирмой Ernst & Young и Китайской торговой палатой по импорту и экспорту машин и электронной продукции в 2024 году, подчеркивается превращение Китая в глобальный центр производства бытовой электроники и бытовой техники. В 2023 году Китай доминировал на рынке Азиатско-Тихоокеанского региона, занимая примерно 48% доли продаж. В докладе подчеркивается, что Китай укрепил свои позиции ведущей страны как в производстве, так и в продажах и сохранил значительное присутствие в экспорте, на долю которого в 2022 году придется 42% мировой доли экспорта.

В Северной Америке ожидается значительный рост с устойчивым среднегодовым темпом роста 12,29% в течение прогнозируемого периода. Правительство США все больше внимания уделяет развитию внутреннего производства полупроводников для повышения национальной безопасности и снижения зависимости от иностранных поставщиков.

Такие инициативы, как Закон CHIPS, который обеспечивает существенное финансирование и стимулы для производства и исследований полупроводников, способствуют внедрению передовых технологий, таких как EUV-литография, в Северной Америке.

• Согласно отчету Восточноазиатского форума за август 2024 года, полупроводниковая промышленность стала важнейшим компонентом экономики и национальной безопасности США. Об этом свидетельствует быстрое расширение мощностей по производству полупроводников по всей стране. Значительные инвестиции, такие как новый завод Intel Fab 42 и завод TSMC в Аризоне, укрепляют внутренние производственные возможности. Хотя Соединенным Штатам принадлежит лишь 12 процентов мировых производственных мощностей, на их долю придется более 46 процентов от общего объема продаж полупроводников в 2024 году, что подчеркивает их значительное влияние на мировом рынке. Ассоциация полупроводниковой промышленности сообщила, что Закон о CHIPS стимулировал частные инвестиции в полупроводниковый сектор США на сумму более 450 миллиардов долларов США, что привело к созданию 83 новых проектов полупроводниковой экосистемы в 25 штатах.

Более того, полупроводниковая промышленность региона извлекает выгоду из сильной сети сотрудничества между ведущими технологическими компаниями, исследовательскими институтами и государственными учреждениями. Эти партнерские отношения способствуют развитию EUV-литографии и облегчают ее внедрение в различные приложения, тем самым способствуя расширению рынка Северной Америки.

Конкурентная среда

Отчет о мировом рынке EUV-литографии предоставит ценную информацию с упором на фрагментированный характер отрасли. Выдающиеся игроки сосредотачивают внимание на нескольких ключевых бизнес-стратегиях, таких как партнерство, слияния и поглощения, инновации продуктов и совместные предприятия, чтобы расширить портфель своих продуктов и увеличить свою долю рынка в различных регионах.

Стратегические инициативы, включая инвестиции в исследования и разработки, создание новых производственных мощностей и оптимизацию цепочки поставок, могут создать новые возможности для роста рынка.

Список ключевых компаний на рынке EUV-литографии

• АСМЛ
• Корпорация Никон
• Ушио Инк.
• Фотороникс Инк.
• ТРУМПФ
• Тайваньская компания по производству полупроводников с ограниченной ответственностью
• Топпан Фотомаски Инк.
• Карл Цейсс АГ
• ОАК Корпорация
• СУСС МикроТек СЕ

Ключевые события в отрасли

• Июнь 2024 г. (Партнерство): ASML в партнерстве с Imec, центром инноваций и исследований цифровых технологий, объявила об открытии Лаборатории литографии High NA EUV в Нидерландах. Этот современный объект, управляемый совместно двумя компаниями, предназначен для того, чтобы предоставить передовым производителям чипов памяти доступ к первому прототипу EUV-сканера High NA, а также к соответствующим метрологическим и обрабатывающим инструментам.
• Февраль 2024 г. (совместное предприятие): Toppan Photomask, ведущий мировой поставщик полупроводниковых фотошаблонов, объявил о заключении соглашения о совместных исследованиях и разработках с IBM. Это сотрудничество направлено на развитие 2-нанометрового (нм) логического полупроводникового узла за счет использования литографии в крайнем ультрафиолете (EUV). Кроме того, партнерство включает в себя усилия по разработке EUV-фотомасок с высокой числовой апертурой для полупроводников следующего поколения.

Мировой рынок EUV-литографии сегментирован на:

По оборудованию

• Источник света
• Оптика
• Другие

Конечным пользователем

• Производители интегрированных устройств
• Литейные заводы

По регионам

• Северная Америка
  • НАС.
  • Канада
  • Мексика
• Европа
  • Франция
  • Великобритания
  • Испания
  • Германия
  • Италия
  • Россия
  • Остальная Европа
• Азиатско-Тихоокеанский регион
  • Китай
  • Япония
  • Индия
  • Южная Корея
  • Остальная часть Азиатско-Тихоокеанского региона
• Ближний Восток и Африка
  • GCC
  • Северная Африка
  • ЮАР
  • Остальная часть Ближнего Востока и Африки
• Латинская Америка
  • Бразилия
  • Аргентина
  • Остальная часть Латинской Америки