원자층 증착 시장

시장 정의

원자층 증착(ALD)은 재료 코팅에 대한 원자 수준 제어를 제공하는 정밀한 박막 증착 기술입니다. 이 프로세스는 순차적이고 자체 제한적인 화학 반응을 통해 작동하여 평면 및 복잡한 3D 표면 모두에서 균일성과 고품질을 보장합니다. 초박형, 결함 없는 필름을 생산하는 정확성과 능력으로 인해 반도체, 에너지 장치, 나노기술 및 고급 코팅에 널리 사용됩니다.

원자층 증착 시장개요

세계 원자층 증착 시장 규모는 2024년 26억 4,460만 달러로 평가되었으며, 2025년 2,9억 8,260만 달러에서 2032년까지 70억 7,780만 달러로 성장하여 예측 기간 동안 연평균 성장률(CAGR) 13.04%를 나타낼 것으로 예상됩니다.

소형화된 반도체 장치에 대한 수요 증가로 인해 ALD 채택이 늘어나고 있습니다. ALD의 나노미터 수준 정밀도를 통해 더 작고, 더 효율적이며, 더 높은 성능의 칩을 제작할 수 있기 때문입니다. 고성능 의료 기기 및 생체 적합성 코팅에 대한 관심이 높아지면서 생명에 중요한 의료 응용 분야에서 신뢰성, 안전성 및 장기적인 기능을 보장함으로써 ALD 구현의 폭넓은 채택을 지원합니다.

주요 내용:

1. 2024년 원자층증착 산업 규모는 26억 4,460만 달러로 기록됐다.
2. 시장은 2025년부터 2032년까지 CAGR 13.04%로 성장할 것으로 예상됩니다.
3. 아시아 태평양 지역은 2024년 9억 2,640만 달러 규모로 35.03%의 점유율을 차지했습니다.
4. 산화알루미늄 ALD 부문은 2024년에 7억 4,250만 달러의 매출을 올렸습니다.
5. 반도체 부문은 2032년까지 18억 5,880만 달러에 이를 것으로 예상된다.
6. 북미 지역은 예측 기간 동안 연평균 성장률(CAGR) 13.56%로 성장할 것으로 예상됩니다.

원자층 증착 시장에서 활동하는 주요 기업으로는 LAM RESEARCH CORPORATION, Applied Materials, Inc., Tokyo Electron Limited, ASM International N.V., Veeco Instruments Inc, Forge Nano Inc, Kurt J. Lesker Company, Arradiance LLC, Oxford Instruments, NCD Co. Ltd, CVD Equipment Corporation, NANO-MASTER, INC, SHOWA SHINKU CO., LTD, SVT Associates, Inc. 및 Beneq가 있습니다. 아야.

재생 에너지 프로젝트에 대한 관심이 높아지면서 특히 고급 배터리와 광전지에서 ALD 기술의 채택이 늘어나고 있습니다. ALD는 정밀한 제어로 균일한 초박막 필름을 가능하게 하여 효율성과 내구성을 향상시킵니다.에너지 저장및 발전 시스템을 통해 시장 성장을 촉진합니다.

• 미국 에너지부(DOE)는 ALD를 통해 배터리 재료 및 시스템의 성능 향상과 수명 연장을 지원하는 첨단 배터리의 국내 생산을 촉진하기 위해 초당적 인프라법에 따라 2023년에 350만 달러를 할당했습니다.

수요 증가 동적 랜덤 액세스 메모리

원자층 증착 시장의 확대를 촉진하는 주요 요인은 컴퓨팅, 모바일 장치, 데이터 센터에서 고성능 메모리에 대한 수요 증가로 인해 DRAM(동적 랜덤 액세스 메모리)에 대한 수요가 증가하고 있다는 것입니다. 반도체 제조업체는 ALD를 사용하여 DRAM 커패시터 및 트랜지스터 구조에 필수적인 초박형 무결함 필름을 증착합니다.

더 빠른 처리, 더 큰 저장 용량 및 에너지 효율성에 대한 요구 사항이 증가하면서 DRAM 생산이 증가하고 있습니다. 이러한 메모리 소비의 지속적인 증가는 고급 증착 기술에 대한 투자 증가로 이어져 시장 성장을 강화합니다.

• 2025년 5월 SIA(반도체산업협회)는 컴퓨팅, 모바일 기기, 데이터센터 수요 증가에 힘입어 전 세계 DRAM 매출이 2024년 443억 달러에서 2027년 556억 달러로 성장할 것으로 예상한다고 보고했습니다. 이러한 성장으로 인해 고급 증착 기술에 대한 필요성이 더욱 커지고 있습니다.

높은 장비 비용

원자층 증착 시장의 발전을 방해하는 주요 과제는 시스템 조달 및 통합에 필요한 높은 장비 비용입니다. ALD 도구에는 고급 반응기, 정밀한 전구체 전달 시스템, 정교한 제어 장치가 포함되어 있어 기존 증착 방법에 비해 자본 투자가 더 높습니다. 또한 유지 관리, 전구체 소싱 및 숙련된 인력 교육을 위한 반복 비용이 운영 비용에 추가되어 ALD의 대규모 채택에 추가적인 장벽을 만듭니다.

이러한 문제를 해결하기 위해 시장 참가자들은 운영 비용을 낮추기 위해 모듈식, 확장 가능 및 에너지 효율성이 더 높은 ALD 시스템을 개발하고 있습니다. 또한 초기 투자를 줄이기 위해 임대 모델, 서비스 기반 계약, 공동 R&D 프로그램을 도입하고 있습니다. 와의 전략적 파트너십반도체 파운드리및 연구 기관은 공유 인프라 및 비용 최적화를 지원합니다.

논리소자 및 첨단반도체에 ALD 통합

원자층 증착 시장에 영향을 미치는 주요 추세는 논리 장치 및 고급 반도체 응용 분야에서의 사용이 증가하고 있다는 것입니다. 제조업체는 ALD를 활용하여 트랜지스터 게이트 스택, 인터커넥트 및 금속화 층에 필수적인 초박형, 균일하고 결함 없는 필름을 증착하고 있습니다. 이러한 정밀한 증착을 통해 장치 성능이 향상되고 에너지 효율성이 향상되며 DRAM, NAND 및 로직 칩의 스케일링이 향상됩니다.

반도체의 복잡성 증가와 성능 요구 증가로 인해 ALD 채택이 촉진되어 차세대 메모리, 처리 및 메모리 분야의 혁신이 촉진됩니다.고성능 컴퓨팅업계 전반의 애플리케이션.

• 2025년 2월, 램리서치는 몰리브덴 금속화를 위한 최초의 ALD 도구인 ALTUS Halo를 출시했습니다. DRAM, NAND 및 로직 장치에 고정밀, 무공극 증착을 제공하고 주요 칩 제조업체의 인증을 받았습니다.

원자층 증착 시장 보고서 스냅샷

시장 세분화

• 제품별(산화알루미늄 ALD, 플라즈마 강화 ALD, 금속 ALD, 촉매 ALD 및 기타): 산화알루미늄 ALD 부문은 주로 초박형 균일 코팅을 위한 반도체 및 전자제품 제조에 광범위하게 사용되어 2024년에 7억 4,250만 달러를 벌어들였습니다.
• 애플리케이션별(반도체, 태양광 장치, 전자, 의료 장비 및 기타): 반도체 부문은 고성능 메모리, 논리 장치 및 고급 칩 제조에 대한 수요 증가에 힘입어 2024년에 26.23%의 점유율을 차지했습니다.

원자층 증착 시장지역분석

지역에 따라 시장은 북미, 유럽, 아시아 태평양, 중동 및 아프리카 및 남미로 분류되었습니다.

2024년 아시아 태평양 원자층 증착 시장 점유율은 9억 2,640만 달러로 35.03%를 기록했습니다. 이러한 지배력은 중국, 일본, 한국, 대만의 주요 전자 제품 및 칩 생산업체가 존재하기 때문에 발생하며, 이는 반도체 제조에서 초박형 컨포멀 필름과 고급 증착 기술에 대한 강력한 수요를 창출합니다.

정부 지원 및 인프라 투자는 주요 반도체 및 전자 제조업체를 유치함으로써 지역 시장 확장을 더욱 촉진합니다. 또한, 광대역 갭 반도체 및 고성능 전력 전자 분야에서 고급 ALD 프로세스의 채택이 늘어나면서 지역 시장 성장에 기여하고 있습니다.

• 2025년 5월, 베네크의 변신ALDCluster Tool은 Tier 1 아시아 반도체 제조업체에서 8개의 GaN-On-Si 웨이퍼에 대한 GaN 기반 전력 장치의 대규모 제조에 대한 인증을 받았습니다. 이 도구는 유전체 및 질화물 필름의 플라즈마 강화 및 열 ALD를 지원하여 GaN HEMT, IC 및 수직 장치의 확장 가능하고 안정적인 제조를 가능하게 합니다.

북미 원자층 증착 산업은 예측 기간 동안 13.56%의 견고한 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다. 이러한 성장은 DRAM, NAND, 고급 로직 칩을 포함한 고성능 메모리 및 로직 디바이스에 대한 수요 증가에 기인합니다.

리튬 이온 및 차세대 배터리를 포함한 에너지 저장 분야에서 ALD 애플리케이션의 확장으로 인해 배터리 및 에너지 저장 제조업체 간의 채택이 증가하고 있습니다. 또한 항공우주, 국방, 고정밀 포토닉스에 대한 투자 증가는 고성능 부품에 대한 ALD 채택을 지원합니다.

• 2025년 8월 General Atomics는 고성능 제품 공급업체인 MLD Technologies, LLC를 인수했습니다.광학 코팅항공우주 및 방위산업 분야의 부품. 이번 인수로 MLD가 GA-EMS에 통합되어 레이저 시스템의 기능이 향상되고 고정밀 특수 광자 및 방위 솔루션에서 ALD의 적용이 향상되었습니다.

규제 프레임워크

• 미국에서는, ALD는 주로 환경 영향, 안전 표준 및 반도체 제조 공정에 초점을 맞춘 규정에 속합니다. 환경 보호국(EPA)은 ALD 공정과 관련된 화학 물질 사용 및 폐기물 처리에 대한 표준을 설정합니다. 직업안전보건청(OSHA)은 ALD에 사용되는 화학물질에 대한 노출과 관련된 작업자 안전을 관리합니다.
• 영국에서는, ALD는 작업장 안전을 위한 Health and Safety at Work Act 1974, 화학 폐기물 관리를 위한 Environmental Protection Act 1990, 화학 위험 평가 및 관리를 위한 Control of Substances Hazardous to Health(COSHH) 규정에 속합니다.
• 중국에서는, 국가 산업 안전 관리국(SAWS)은 ALD 공정과 관련된 장비 및 화학 물질에 대한 안전 표준을 규제하여 산업 안전법을 준수하도록 보장합니다. 중국 국가환경보호국(SEPA)은 배출 기준과 화학 폐기물 관리를 감독합니다. 또한 중국의 국가발전개혁위원회(NDRC)는 반도체 제조의 에너지 사용을 통제하여 기업들이 지속 가능하고 에너지 효율적인 ALD 공정을 추진하도록 독려하고 있습니다.
• 한국에서는ALD는 배출, 화학물질, 폐기물 처리와 관련된 환경 보호법을 집행하는 환경부(MOE)의 규제를 받습니다. 직업안전보건청(OSHA)은 ALD를 사용하는 제조 시설의 작업자 안전을 규제하여 유해 물질의 안전한 취급을 보장합니다.

경쟁 환경

원자층 증착 산업에 종사하는 주요 업체들은 다양한 크기의 웨이퍼를 처리할 수 있는 처리량이 높은 단일 웨이퍼 ALD 클러스터 도구를 개발하고 있습니다. 이들은 첨단 반도체 응용 분야의 품질 요구 사항을 충족하기 위해 초박형, 균일하고 결함 없는 필름 생산에 주력하고 있습니다.

또한 플레이어들은 전구체 소비를 줄이고, 화학 폐기물을 최소화하며, 증착 중 에너지 효율성을 향상시켜 ALD 공정을 보다 환경 친화적이고 비용 효율적으로 만들어 지속 가능성을 우선시하고 있습니다.

• 2024년 7월 Forge Nano는 200mm 이하 웨이퍼용 TEPHRA 단일 웨이퍼 ALD 클러스터 도구를 출시했습니다. 이 도구는 높은 처리량과 효율적인 화학 사용을 갖춘 초박형 균일한 핀홀 없는 필름을 제공하여 전력 장치, RF 구성 요소, 마이크로 LED 및 MEMS를 포함한 고급 반도체 응용 분야의 확장 가능하고 안정적인 제조를 지원합니다.

원자층 증착 시장의 주요 기업 :

• 램리서치 코퍼레이션
• 어플라이드 머티리얼즈, Inc.
• 도쿄 일렉트론 주식회사
• ASM 인터내셔널 N.V.
• Veeco 계측기 Inc
• 포지 나노 주식회사
• 커트 J. 레스커 컴퍼니
• 아라디언스 LLC
• 옥스퍼드 악기
• (주)엔씨디
• CVD 장비 공사
• 나노마스터(주)
• 쇼와신쿠(주)
• SVT 어소시에이츠, Inc.
• 베네크 오이.

최근 개발(제품 출시)

• 2024년 8월, Kalpana Systems는 태양광 PV, OLED, 배터리 및 패키징 응용 분야를 위한 롤투롤 공간 ALD 도구를 출시했습니다. 이 장비는 기능성 박막의 높은 처리량, 정밀한 증착을 촉진하고 초기에는 장벽층을 목표로 하며 유연한 전자 장치 및 에너지 장치를 위한 확장 가능하고 비용 효율적인 코팅을 지원합니다.