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Taille du marché des équipements de nettoyage à la plaquette, partage, croissance et analyse de l'industrie, par taille de plaquette (300 mm, 200 mm, ≤ 150 mm), par technologie (processus de nettoyage chimique humide), par équipement, par mode opération, par application et analyse régionale, 2024-2031
Pages: 230 | Année de base: 2023 | Version: April 2025 | Auteur: Versha V.
Le marché englobe un large éventail de technologies, d'équipements, de modes opérationnels et d'applications qui soutiennent collectivement le nettoyage des plaquettes de semi-conducteur à différentes étapes de la fabrication d'appareils. Ce marché répond au besoin croissant de surfaces sans contamination afin d'assurer des performances et un rendement optimaux dans la fabrication de semi-conducteurs.
Ce marché a été segmenté en fonction de la taille de la plaquette, y compris 300 mm, 200 mm et des plaquettes ≤ 150 mm, décrivant les diverses exigences de différents nœuds de fabrication. Le rapport comprend les moteurs de croissance primaires et une analyse approfondie des tendances émergentes et des cadres réglementaires évolutifs façonnant la trajectoire de l'industrie.
La taille du marché mondial des équipements de nettoyage de plaquettes était évaluée à 7,32 milliards USD en 2023 et devrait passer de 7,87 milliards USD en 2024 à 13,63 milliards USD d'ici 2031, présentant un TCAC de 8,15% au cours de la période de prévision.
Le développement rapide desemi-conducteurLes installations de production stimulent cette croissance. Cette croissance de la fabrication de semi-conducteurs contribue directement à la demande d'équipements de nettoyage avancés de plaquettes, car les nouvelles installations nécessitent des technologies de nettoyage de pointe pour maintenir le rendement et assurer une qualité de produit optimale pendant la fabrication.
Les grandes entreprises opérant dans l'industrie des équipements de nettoyage à plaquettes sont ITW, SEMES, Shibaura Mechatronics Corporation, Pékin TSD Semiconductor Co., Ltd., Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd., AP&S International GMBH, Veeco Instruments Inc., Axus Technology, Toky Electron Limited, Ulton Systems, Inc., Modutek Corporation, Law Research Corpory, Enter, Ulton Systems, Inc., Modutek Corporation, LAMO Akrion Technologies Inc., Applied Materials, Inc.
De plus, une tendance notable sur le marché est la préférence croissante pour les systèmes de nettoyage unique. À mesure que les dispositifs semi-conducteurs continuent de rétrécir, les processus de nettoyage précis et contrôlés deviennent essentiels. Les systèmes de nettoyage à la plume unique offrent un plus grand contrôle, garantissant que chaque plaquette répond aux normes les plus élevées sans aucun dommage.
Ces systèmes offrent également une efficacité plus élevée en réduisant la consommation chimique, ce qui en fait un idéal pour les environnements de fabrication moderne et à haute précision des semi-conducteurs.
Moteur du marché
Augmentation des investissements dans des installations de fabrication de semi-conducteurs
Le marché est fortement motivé par la hausse des investissements dans les installations de fabrication de semi-conducteurs dans les principales régions mondiales. Avec une demande croissante de puces dans l'électronique grand public, l'automobile et les applications de l'IA, les gouvernements et les principales sociétés de semi-conducteurs allouent des capitaux substantiels pour construire de nouveaux FAB et développer des capitaux existants.
L'Asie-Pacifique et l'Amérique du Nord voient particulièrement les développements d'infrastructures à grande échelle pour stimuler la production locale de puces et réduire la dépendance à l'égard des importations. Ces extensions alimenteront probablement la demande d'équipements de nettoyage de la plaque pour assurer des surfaces de plaquettes sans contamination à divers stades de la fabrication de semi-conducteurs.
Défi du marché
Complexité du nettoyage des nœuds semi-conducteurs avancés
Un défi majeur sur le marché des équipements de nettoyage des plaquettes est la complexité croissante du nettoyage des nœuds semi-conducteurs avancés, en particulier 5 nm et moins. À mesure que les dispositifs semi-conducteurs deviennent plus petits et plus complexes, les méthodes de nettoyage traditionnelles peuvent avoir du mal à éliminer efficacement les contaminants sans endommager les surfaces délicates ou l'introduction de nouveaux défauts.
Une solution potentielle à ce défi est le développement de technologies de nettoyage avancées, telles que le nettoyage à sec et les systèmes d'aérosols cryogéniques, qui offrent un contrôle plus précis et réduisent le risque de dommages en surface. Ces technologies peuvent obtenir une élimination efficace des contaminants tout en étant douce pour les plaquettes, améliorant finalement l'efficacité du nettoyage et le rendement tout en réduisant la dépendance à l'égard des produits chimiques dangereux.
Tendance
Se déplacer vers des systèmes de nettoyage unique
La tendance clé du marché sur le marché est la transition croissante vers les systèmes de nettoyage unique. Cette tendance est largement motivée par le besoin croissant de processus de nettoyage précis et efficaces, d'autant plus que les dispositifs semi-conducteurs continuent de rétrécir.
Les systèmes de nettoyage unique permettent un plus grand contrôle des processus, garantissant que chaque plaquette individuelle est nettoyée selon les normes les plus élevées. Ceci est important pour les nœuds semi-conducteurs avancés, où même les plus petits contaminants peuvent entraîner une dégradation des performances ou une perte de rendement.
La flexibilité des systèmes à wafer unique leur permet également d'être intégrées de manière transparente dans les lignes de fabrication de semi-conducteurs modernes, qui nécessitent souvent un débit élevé et une adaptabilité à différentes tailles de plaquettes et exigences de processus.
Segmentation |
Détails |
Par la taille de la tranche |
300 mm, 200 mm, ≤ 150 mm |
Par technologie |
Processus de nettoyage chimique humide, processus de nettoyage à sec vapeur, technologies émergentes, processus de nettoyage aqueux, aérosols cryogéniques et processus de nettoyage de liquide super critique |
Par équipement |
Système de pulvérisation à gaufrette, systèmes de nettoyage par lots à immersion, système de nettoyage par lots, équipement de nettoyage à ultrasons, épurateur, systèmes cryogéniques à plaquette unique |
Par mode opération |
Automatique, semi-automatique, manuel |
Par demande |
Systèmes microélectromécaniques (MEMS), capteur d'image CMOS (CIS), mémoire, logique, radiofréquence (RF), interposer, diode émettrice de lumière (LED), autres |
Par région |
Amérique du Nord: États-Unis, Canada, Mexique |
Europe: France, Royaume-Uni, Espagne, Allemagne, Italie, Russie, reste de l'Europe | |
Asie-Pacifique: Chine, Japon, Inde, Australie, ASEAN, Corée du Sud, reste de l'Asie-Pacifique | |
Moyen-Orient et Afrique: Turquie, EAU, Arabie saoudite, Afrique du Sud, reste du Moyen-Orient et de l'Afrique | |
Amérique du Sud: Brésil, Argentine, reste de l'Amérique du Sud |
Segmentation du marché:
Sur la base de la région, le marché mondial a été classé en Amérique du Nord, en Europe, en Asie-Pacifique, au Moyen-Orient et en Afrique et en Amérique latine.
La part de marché des équipements de nettoyage de plaquettes en Asie-Pacifique était de 40,28% en 2023 sur le marché mondial, avec une évaluation de 2,95 milliards USD. Cette domination est principalement motivée par la présence de principaux centres de fabrication de semi-conducteurs en Chine, à Taïwan, en Corée du Sud et au Japon.
Ces nations accueillent des fonderies et des IDM de premier plan qui investissent dans des installations de fabrication avancées, ce qui stimule la demande de systèmes de nettoyage de plaquettes de haute précision. En outre, de fortes initiatives gouvernementales pour renforcer les capacités nationales des semi-conducteurs, la croissance des exportations électroniques et l'augmentation de la consommation d'électronique grand public contribuent à la part de marché de la région.
L'Amérique du Nord est sur le point de croître à un TCAC de 8,30% au cours de la période de prévision. Cette croissance est soutenue par une augmentation des investissements dans les infrastructures de fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans le.S., où des initiatives stratégiques comme la Chips Act visent à revitaliser la production intérieure.
Le financement du gouvernement, les partenariats public-privé et les efforts de collaboration visant à réduire la dépendance à l'égard des chaînes d'approvisionnement à l'étranger accélèrent davantage l'expansion de la chaîne de valeur des semi-conducteurs en Amérique du Nord.
Les entreprises se concentrent fortement sur le développement de solutions de nettoyage de nouvelle génération pour la réduction des géométries des dispositifs et des structures de plaquettes complexes, telles que la NAND 3D et les nœuds logiques avancés. L'investissement continu en R&D améliore la précision de nettoyage, réduit l'utilisation des produits chimiques et améliore le débit pour répondre aux besoins en évolution des FAB semi-conducteurs.
Les partenariats stratégiques et les collaborations avec les Foundries et les fabricants de dispositifs intégrés (IDM) sont courants, permettant aux fournisseurs d'équipement de co-développer des solutions de nettoyage personnalisées alignées avec des nœuds de processus spécifiques. De plus, les fusions et acquisitions sont utilisées comme stratégie clé pour élargir les portefeuilles de produits et accéder à des technologies complémentaires, telles que les systèmes de nettoyage cryogénique ou les alternatives respectueuses de l'environnement.
De nombreuses entreprises proposent également des conceptions de systèmes modulaires et un contrôle de processus compatible des logiciels pour améliorer la flexibilité, la fiabilité et l'intégration des équipements avec des environnements de fabrication intelligents.
Développements récents (lancement de produit)